China soll eigene Immersions-DUV-Belichter in Serie fertigen

TrendForce meldet heute unter Berufung auf chinesische Medienberichte, ein staatlich gestützter Hersteller in Shanghai habe die Massenproduktion von Immersions-DUV-Lithografiesystemen aufgenommen. Als Erstabnehmer werden SMIC, Hua Hong und der DRAM-Hersteller CXMT genannt, ausgeliefert werden soll noch in diesem Jahr.

Immersions-DUV, technisch ArF-i bei 193 Nanometern, ist die Schlüsseltechnik für Strukturen bis grob 28 nm. Über Multi-Patterning reicht sie auch für die 14- und die 7-nm-Klasse sowie für moderne DRAM-Nodes. Beherrscht haben diese Geräte bisher nur ASML, Nikon und Canon.

Genau sie stehen seit 2023 auf den niederländischen und US-amerikanischen Exportlisten. Ein funktionierender chinesischer Ersatz wäre der Punkt, an dem diese Listen ihren Zweck verlieren.

Was der Bericht nicht sagt

Entscheidend sind Overlay-Genauigkeit, Durchsatz und Ausbeute im Dauerbetrieb. Zu keinem der drei Punkte nennt der Bericht eine Zahl.

An genau diesen Punkten scheiterten chinesische Prototypen bisher. Belichten konnten sie, nur eben nicht Millionen Mal hintereinander mit derselben Präzision. Ein Gerät, das im Labor ein Muster trifft und in der Linie nach zwei Wochen driftet, ist keine Fertigungsmaschine.

Eine Primärquelle war nicht auffindbar. SMIC, Hua Hong, CXMT, ASML und der genannte Hersteller haben sich nicht geäußert (Stand 28.07.2026), und selbst der Firmenname bleibt in den Berichten unscharf.

Was heißt hier also Massenproduktion? Solange keine Yield- und Overlay-Daten vorliegen, kann das ebenso gut heißen, dass eine Handvoll Geräte an wohlwollende Kunden zur Erprobung geht. Der Sprung von dort zur Serienfertigung hat ASML rund zwei Jahrzehnte gekostet.

Dass CXMT in der Abnehmerliste steht, passt zum Rest der Woche. Der Speicherhersteller ist seit Kurzem in Shanghai börsennotiert und braucht für seine angekündigte Kapazitätsausweitung Belichter, die er auf dem Weltmarkt nicht kaufen darf.